万达丰
只买龙头的老股民
2025-09-25 20:06:46
聚和材料：空白掩模有望国产化，聚和材料版图扩展（来自韭研公社APP）
@蹦恰恰~：
聚和材料：空白掩模有望国产化，聚和材料版图扩展1、Blank Mask为半导体核心材料，国产化率极低。Blank Mask（空白掩模）用于制造光掩模版（Photomask），作为光刻复制图形的基准和蓝本，掩模版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。近年国内半导体核心原材料的掩模版/空白掩模
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