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流浪韭菜
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流浪韭菜
2025-02-28 20:25:58
继续看好拓荆科技,中微公司!
半导体设备国产替代,先进制程扩产,且是真正的存储链! 3D-DRAM 刻蚀步骤增多,薄膜沉积需求大增,键合设备重要性凸显,光刻重要性降低。3D NAND 为实现高性能,刻蚀需精细操作致步骤增加,薄膜沉积要严控厚度与均匀性,需求提升,键合对连接稳定很关键,光刻权重较传统平面工艺有变化。 看中国存储,看国产替代! 3D-DRAM 刻蚀步骤增多,薄膜沉积需求大增,键合设备重要性凸显,光刻重要性降低。3D NAND 为实现高性能,刻蚀需精细操作致步骤增加,薄膜沉积要严控厚度与均匀性,需求提升,键合对连接
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