异动
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逻辑趋势博士
2023-03-08 22:44:26
时刻
@踏浪修行王地瓜: 刻蚀与光刻、薄膜沉积是半导体制造中的三大步骤,并且不断循环进行,以制造出更为精细的电路结构。前面讲到我国在先进制程光刻机领域暂时难以改变现状,而刻蚀机有望成为三大半导体设备中实现国产化的先锋。1. 刻蚀原理刻蚀是利用化学或者物理的方法将晶圆表面附着的不必要的材质进行去除的过程。刻蚀工艺顺序位于镀膜、
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