周三舆情热度:
①半导体材料:日本经济产业省23日出台了修改后的《输出贸易管理令》,将先进半导体设备纳入出口管制法规的范围(容大感光、同益股份、格林达、南大光电、怡达股份等)
②AI游戏:游戏版号发放常态化,AI加持游戏产业开启新周期(电魂网络、天娱数科、冰川网络、恺英网络、神州泰岳等)
③CPO:CPO功耗相比以前降低了50%,体积更小,大规模量产的成本也更低,可以满足大型AI模型、超级计算机、数据中心等核心应用的通信带宽需求(光库科技、联特科技、太辰光、天孚通信、剑桥科技等)
④光伏:协鑫集团董事长朱共山表示,预计今年全世界光伏新增装机将在350GW左右,明年累计装机量很可能将超过水电(中信博、通灵股份、海源复材、格林达、钧达股份等)
⑤锰酸锂涨价:4月下旬以来,锰酸锂价格见底反弹,从4月低点的5.7万元/吨,涨至最新的9.5万元/吨,一个月时间价格涨幅达到66.67%(红星发展、湘潭电化、超频三、天力锂能、东方钽业等)
................
事件:日本设备出口管制法规正式落地,看好国产设备加速替代
日本经济产业省5月23日公布了基于外汇法的出口管制法规修正版,该修正版在限制设备品类(23类设备)和范围(主要限制10-14nm先进制程)上与3月31日发布的草案无明显区别。中国如想获得名单内设备需要单独得到批准,该法案预计于7月23日施行。
该法规涉及3项清洗设备、11项薄膜沉积设备、1项热处理设备、4项光刻/曝光设备、3项刻蚀设备以及1项测试设备,主要针对先进制程
其中清洗包括(真空清洗及镀铜,多腔干式清洗,单片式清洗),薄膜沉积设备涉及(CVD、MOCVD、ALD等高端薄膜设备);刻蚀包括(干法、湿法、干法各向异性设备);高端真空退火设备;EUV掩模检测;步进式光刻机、涂胶显影机、掩膜设备等
中国为日本设备出口大国,该禁令影响TEL,尼康、Hitachi、DNS等公司
日本2021年向中国本土出口的制造设备达到约120亿美元,中国贡献其设备出口额的40%,受到该禁令影响的日本主要设备厂商包括TEL(刻蚀、薄膜沉积、涂胶显影等),尼康(光刻)、Hitachi(刻蚀)、DNS(清洗)等,该禁令出台后日本设备股大跌。
中国先进制程扩产或受影响,但不改成熟制程扩产趋势,看好国产化加速。
23类设备包括按运算用逻辑半导体的性能来看,均属于制造电路线宽在10~14纳米以下的尖端产品所需设备。先进制程或受到影响,但不改成熟制程扩产趋势。