异动
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华为光刻胶 看这一篇就够了
逻辑KING
热爱评论的公社达人
2023-09-04 14:41:33


不同光刻胶对应的制程


 

比如大家最关心的EUV光刻机,最先进,用于7纳米以下支撑,极紫外光的波长小于13.5纳米,就得用EUV光刻胶。

稍微容易一点,DUV光刻机,用的是深紫外光,波长193纳米,得用ArF光刻胶(或者ArFi光刻胶),也可以简称“A胶”。

再容易一点,制程都不是纳米,到了微米级别了,光的波长248纳米,得用KrF光刻胶,或者叫“K胶”。

相对来说最容易的,就是g线和i线的光刻胶,波长436纳米和365纳米。

价格上大致来说,g线/i线光刻胶2~3万元/瓶,K胶4~5万元/瓶,A胶6~8万元/瓶,EUV光刻胶10~20万元/瓶。

国产替代的过程就是从易到难的,现在g线和i线的光刻胶市场都有点饱和了,国产化率也比较高。

国产替代刚刚走到了K胶和A胶的这一步,而且国产化率极低

 

光刻胶非常重要

能够做EUV胶的美国1家日本4家

中国最早研发是南大光电但它现在落后于徐州博康和上海新阳

7月23日起,日本针对尖端半导体制造设备出口的限制措施正式生效

三星集团的CEO就曾表示:“如果光刻机缺少了光刻胶,那么光刻机就是一堆废铁。”

而在集成电路当中,光刻工艺是最核心、最重要的加工环节,耗时达到整个芯片工艺的40%~50%。

光刻胶又是光刻工艺中最为核心的材料之一,它的纯度、质量都直接决定芯片的良率。

虽然现在日本人还没卡死光刻胶出口,但我们必须得加紧国产化的研制。

为啥呢?因为光刻胶储存难度很大,保质期只有6个月。

你光刻机被卡了,还能淘个二手货拉过来凑活用。光刻胶被卡了,那就只有干瞪眼的份儿了。不管是哪个国家的半导体产业,光刻胶一旦被人断供,那断供方可真是四两拨千斤,打蛇打七寸。2019年日本跟韩国翻脸,日本人不准给韩国出口光刻胶。结果三星半导体第一代3纳米制程的芯片良率只有10%~20%,其中一个重要原因就是三星这次用上的光刻胶材料纯度不够。这一下倒是把韩国人给逼出来了,到2022年12月,三星宣布,韩国的东进半导体研发的EUV光刻胶成功应用到芯片生产线上了,东进也是第一家把EUV光刻胶本土化到量产水平的韩国公司






标的逻辑晚上补充!

作者在2023-09-04 15:16:30修改文章
作者利益披露:转载,不作为证券推荐或投资建议,旨在提供更多信息,作者不保证其内容准确性。
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  • 只看TA
    2023-09-05 08:43
    厉害了
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  • 只看TA
    2023-09-04 16:54
    韩国东进EUV不是打叉的么
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  • 不懂
    自学成才的老司机
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    2023-09-04 16:19
    不错
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  • 只看TA
    2023-09-04 15:34
    谢谢
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