光刻机是一种在芯片制造过程中用于将设计好的集成电路图形复刻到硅晶圆上的精密设备。

工作原理：光刻机利用光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片进行曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上的图形复印到薄片上，形成电子线路图。光刻机的工作原理类似于照相机，但光刻机刻的是电路图和其他电子元件。

光刻工艺：光刻工艺是芯片制造流程中最关键的一步，确定了芯片的关键尺寸，并在整个制造过程中占据约35%的成本。光刻工艺包括底膜处理、涂胶、前烘、对准曝光、显影、刻蚀、去胶光刻检验等步骤。

中国大陆光刻机市场空间广阔，但主要依赖荷兰、日本等地进口。根据中国海关总署数据，2022年中国大陆IC用光刻机进口金额共39.7亿美元，其中从荷兰、日本的进口金额分别为25.5/13.0亿美元，进口机台数分别为147台、635台，对应进口均价分别为1733、204万美元，高端机

台主要从荷兰ASML进口。中国大陆是ASML第三大客户。2022年ASML对中国大陆总销售额31.4亿美元(含设备、服务等)，其中设备收入23.3亿美元，占14%，仅次于中国台湾和韩国。

光刻机产业链

整机制造：

上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）是中国领先的光刻机制造商，致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。

上海微电子没有在A股上市，不过张江高科曾公告：通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资了上海微电子装备有限公司22，345万元人民币，持有微装公司10.779%的股权，后续公司未实施增资。公司投资上海微电子装备、华勤通讯为代表的一批集成电路优质企业，实现“中国芯”国产光刻机的重大突破。

上海电气：母公司为上海微电子第一大股东

长春光学精密机械与物理研究所（长春光机所）在光刻机领域也有显著的成就：长春光机所成功研发了EUV光刻机的高精度弧形反射镜系统，并在2021年通过中科院控股企业北京中科科美研发的镀膜装置，实现了EUV级光刻机级别的高精度弧形反射镜系统的纯国产化。

奥普光电：长春光机所为公司实际控制人

光刻机零部件

光源制造：光刻机的光源制造是其核心技术之一

波长光电：在半导体应用领域，公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力。公司成功研发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套，并已交付多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序。

福晶科技是国内光刻机光学元件的主要供应商之一。光刻机最核心难点在于光学系统，福晶科技具备精密光学元件供应能力，并积极扩产应对光刻机和光模块等高成长应用带来的需求。

茂莱光学是国内极少数DUV光刻机透镜和系统光学器件生产商，产品已经达到深紫外波段要求。公司深度绑定上海微电子和H客户，随着上海微600系列光刻机的推进，茂莱的DUV光刻零部件有望在重点客户迎来放量

物镜系统：主要功能是将掩模上的图形精确地投影到硅片上。其性能决定了光刻机的线宽、套刻精度等关键参数。物镜系统的设计和制造是光刻机技术的核心之一

赛微电子：光刻机厂商的MEMS透镜部件供应商

光刻机清洗设备：在半导体制造过程中扮演着至关重要的角色，主要用于去除晶圆表面和掩膜版上的污染物，确保光刻工艺的精度和良率。

美埃科技：洁净室关键设备，提供最高洁净等级标准的设备，国外企业供应商白名单

蓝英装备：瑞士子公司UCM AG自2008年开始与荷兰光刻机制造商ASML（阿斯麦公司）开展合作，为ASML及其供应商提供极紫外光刻机（EUV）的光学系统相关关键部件的清洗设备 。UCM AG的精密清洗设备可应用于电子设备制造行业，确保光刻机在生产过程中的精确性和可靠性 。

其他光刻机厂商：

苏大维格：向上海微电子提供光刻机用的定位光栅产品

同飞股份：公司液体恒温设备在半导体制造设备领域主要应用于光刻机、刻蚀机、PVD/CVD、研磨抛光机等关键设备的温度控制。

富乐德：公司已研发并量产半导体14nm制程洗净工艺、储备的半导体7nm部品清洗工艺已较为成熟。公司为光刻环节的溶胶显影、涂胶等设备提供精密洗净服务。

金力泰：零部件表面处理,超微弧氧化技术可应用于光刻机设备零部件的表面处理，子公司是上海微电子供应商

晶方科技：公司下属荷兰ANTERYON公司服务国际领先光刻机厂商，部分产品运用于光刻机部件。

京华激光：控股美国公司在光刻机微结构光学方面实力较强

电科数字：子公司可供货光刻机控制器

东方嘉盛：公司上半年向深圳海关申请设立寄售维修保税仓库已获批通过。七月初公司已经中标，将与国际头部芯片光刻机厂商合作，共同在深圳建设寄售维修保税仓库，为华南片区集成电路制造企业提供全天候快速响应的光刻机寄售维修服务。

海立股份：海立集团与微电子装备集团双方领导就项目合作、产品配套等内容进行深入探讨。双方以封装光刻机得冷却系统配套为起点，进一步提升合作能级，逐步从零部件级供应合作提升为系统级供应合作。

泰晶科技：公司深耕光刻工艺技术十余年， 在国内率先实现MEMS光刻工艺的产业化应用，并在技术、工艺、产品上保持了与国际前沿技术水平的同步，光刻晶片包含超高频MHz和kHz， 光刻晶片自主研发， 自主可控； 公司已经与EPSON、NDK、大真空、精工等同行开展不同方式的合作， 将进一步加大合作力度， 以充分发挥各方技术与产品优势，强化光刻工艺产品、车规级晶振等方面的互动合作，同时公司部分自主研发生产的关键核心设备，以其更匹适生产工艺的优质性能，达到国际先进技术标准供应给日系同行。

国林科技：子公司国林半导体臭氧设备产品从2022年下半年开始进行市场导入，2023年以来陆续在半导体、面板、科研等行业领域出货验证，该产品用于化学气相沉积(CVD) 、原子层薄膜沉积(ALD) 、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除等工艺中.