光刻胶用显影液/剥离液+OLED 1、公司是国内TMAH显影液龙头，为光刻生产工艺中的关键耗材。公司还与客户进行联合开发，配套研发出蚀刻液、 CF 显影液、含氟类缓冲氧化蚀刻液（BOE 蚀刻液）、稀释液、清洗液等一系列产品。 2、公司承接的省级项目浙江省“领雁” 研发攻关计划项目-“先进半导体材料中光刻胶配套高纯显影液的技术研发” ，目前已完成项目技术开发验证和产业化应用测试，相关产品已量供导入半导体功率器件领域的头部企业。 3、公司已经攻克芯片封装环节用显影液并开始供货，并已经攻克晶圆制造前道工艺中40纳米以上成熟制程。